绝缘栅场效应管是一种金属—氧化物—半导体场效应管,简称MOS管。 | ||||||||||||||||||||||||||
MOS管按工作方式分类: | 增强型MOS管:N 沟道, P沟道 耗尽型MOS管:N 沟道, P沟道 |
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(一)N沟道增强型MOS管的结构和工作原理 | ||||||||||||||||||||||||||
1.结构和符号: | ||||||||||||||||||||||||||
2.工作原理 | ||||||||||||||||||||||||||
绝缘栅场效应管是利用电场效应来改变导电通道的宽窄,从而控制漏-源极间电流的大小。 | ||||||||||||||||||||||||||
(1)感生沟道的形成:栅极和源极之间加正向电压 | ||||||||||||||||||||||||||
① 在电场的作用下,可以把P型衬底表面层中多数载流子空穴全部排斥掉,形成空间电荷区。 ② 当uGS增加到某一临界电压(UT)值时,吸引足够多的电子,在P型半导体的表面附近感应出一个N型层,形成反型层—-漏源之间的导电沟道。开始形成反型层的uGS称为开启电压(UT)。 |
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uGS越高,电场越强,感应的电子越多,沟道就越宽。 | ||||||||||||||||||||||||||
(2)栅源电压uGS对漏极电流iD的控制作用 | ||||||||||||||||||||||||||
在栅源电压uGS=0时,没有导电沟道。增大VGG,使uGS=UT时形成导电沟道。 | ||||||||||||||||||||||||||
uGS对iD的控制作用: | ||||||||||||||||||||||||||
uGS变大 | iD变大 | |||||||||||||||||||||||||
沟道宽度变宽 | 沟道电阻变小 | |||||||||||||||||||||||||
(3)漏源电压uDS对漏极电流iD的影响 | ||||||||||||||||||||||||
当uDS较小,即uGD>>UT时,沟道宽度受uDS的影响很小,沟道电阻近似不变,iD随uDS的增加呈线性增加。 当uDS增大时,沟道各点与栅极间电压不等,使沟道从源极向漏极逐渐变窄。随着uDS增大,沟道电阻迅速增大,iD不再随uDS线性增大。 继续增大uDS ,则uGD <UT,夹断区增加,增加的uDS电压几乎全部降落在夹断区上,所以uDS虽然增加而电流基本上是恒定的。 |
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(二)N沟道增强型MOS管的特性曲线 | ||||||||||||||||||||||||
1.输出特性 | ||||||||||||||||||||||||
输出特性是指uGS为一固定值时,iD与uDS之间的关系,即 | ||||||||||||||||||||||||
(1)可变电阻区(非饱和区) | ||||||||||||||||||||||||
Ⅰ区对应预夹断前,uGS>UT,uDS很小,uGD>UT的情况。 | ||||||||||||||||||||||||
(2)恒流区(饱和区) | ||||||||||||||||||||||||
Ⅱ区对应 预夹断后,uGS>UT,uDS很大,uGD<UT的情况。 | ||||||||||||||||||||||||
(3)截止区 | ||||||||||||||||||||||||
该区对应于uGS≤UT的情况 | ||||||||||||||||||||||||
2.转移特性 | ||||||||||||||||||||||||
转移特性是指uDS为固定值时,iD与uGS之间的关系,即 | ||||||||||||||||||||||||
特点:当FET工作在恒流区,不同uDS的转移特性曲线基本接近。 | ||||||||||||||||||||||||
(UGS>UT) |
(三)N沟道增强型MOS管的主要参数 | |||||||||||||
1.直流参数 | |||||||||||||
(1)开启电压UT:在衬底表面感生出导电沟道所需的栅源电压。实际上是在规定的uDS条件下,增大uGS,当iD达到规定的数值时所需要的uGS值。 (2)直流输入电阻RGS:在uDS=0的条件下,栅极与源极之间加一定直流电压时,栅源极间的直流电阻。 |
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2.交流参数 | |||||||||||||
(1)跨导gm | |||||||||||||
(2)极间电容:栅、源极间电容Cgs和栅、漏极间电容Cgd,它影响高频性能的交流参数,应越小越好。 | |||||||||||||
3.极限参数 | |||||||||||||
(1)漏极最大允许电流IDM | |||||||||||||
是指场效应管工作时,允许的最大漏极电流。 | |||||||||||||
(2)漏极最大耗散功率PDM | |||||||||||||
是指管子允许的最大耗散功率,相当于双极型晶体管的PCM。 | |||||||||||||
(3)栅源极间击穿电压U(BR)GS | |||||||||||||
是指在uDS=0时,栅源极间绝缘层发生击穿,产生很大的短路电流所需的uGS值。击穿将会损坏管子。 | |||||||||||||
(4)漏源极间击穿电压U(BR)DS | |||||||||||||
是指在uDS增大时,使iD开始急剧增加的uDS值。此时不仅产生沟道中的电子参与导电,空间电荷区也发生击穿,使电流增大。 |
(四)N沟道耗尽型MOS管 | ||||||||||||||||||
1.工作原理 | ||||||||||||||||||
SiO2绝缘层中掺入大量的正离子。在uGS=0时,P衬底表面已经出现反型层,存在导电沟道。 当uGS>0时感生沟道加宽,iD增大。 当uGS<0时感生沟道变窄,iD减小。 当uGS达到某一负电压值UP时,抵消了由正离子产生的电场,导电沟道消失,iD≈0,UP称为夹断电压。 |
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2.特性曲线 | ||||||||||||||||||
3.主要参数 | ||||||||||||||||||
(1)夹断电压UP:是指导电沟道完全夹断时所需的栅源电压。 (2)零偏漏极电流IDSS:该电流为uDS在恒流区范围内,且uGS=0V时的iD值,亦称饱和漏极电流。 |