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  场效应管的电流控制机理与双极型晶体管不同,它是由电场来控制载流子导电通道的大小来控制电流大小的。对结型场效应管,这个电场是反向PN结的内电场;对MOS管,则是由外加栅压和衬底之间形成表面电场。以N沟道结型场效应管为例。在 什么是场效应管的沟道、沟道电阻?为什么场效应管是多子导电时,只要加上正的漏-源电压VDS,N型半导体中的多数载流子--自电子就由源极通过N型半导体向漏极漂移,或者说有漏极电流ID从漏极流向源极。这个N型半导体形成了自由电子或电流的通道,叫做"沟道"。沟道的厚薄,或者说沟道的电阻受P型栅极和N型沟道间反向PN结的内电场,也就是栅源电压VGS大小的控制因为电流ID是由N型半导体中多数载流子的漂移形成,所以场效应管是多子导电(即使在MOS管中也是这样)。

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